7nm 생산의 최전선에 있는 세계 최대의 반도체 제조 업체인 TSMC는 EUV(Extreme Ultraviolet Lithography) 를 사용하여 2세대 7nm 기술은 'N7+' 로 좋은 진보를 보이고 있다고 발표했습니다.
무명의 고객에게 N7+의 첫 생산품이 출하되었습니다.
이 회사는 1세대 7nm 생산은 애플 아이폰과 같은 최종 제품이 이미 고객의 손에 있으며, 잘 작동되고 있습니다.
아직 완전히 EUV는 아니지만, N7+ 공정은 최대 4개의 비 핵심 레이어에 대해 제한된 EUV 사용량을 볼 수 있어 회사는 신기록을 최대한 활용하는 방법을 찾아낼 수 있습니다.
대량 생산을 위한 방법과 실험실에서 공장으로 이동하자마자 나타나는 작은 단점을 수정하는 방법에 대해 설명합니다.
새로운 기술은 전력, 열 제한 설계에 특히 중요한 6~12% 낮은 전력 소모, 20% 향상된 밀도를 제공할 것으로 예상됩니다.
또한 매년 새로운 디자인을 출시할 것으로 기대되는 많은 TSMC 고객을 위한 훌륭한 마케팅 도구가 될겁니다.
N7+ 공정을 통해 TSMC는 자동차 부문을 목표로 삼고 있으며, 출시가 더 느리게 진행되는 상황에서 이 공정이 오랜 기간 사용할 수 있음을음 시사합니다.
7nm의 후속작으로, TSMC의 목표는 5nm이며, 내부적으로 'N5' 라 불립니다.
이 공정은 EUV를 최대 14개 레이어로 사용하며, 19년 4월에 리스트 생산을 준비합니다.
TSMC에 따르면, PCIe 4.0, USB 3.1을 제외하고 많은 IP 블록이 N5에 준비되어 있습니다.
우리는 새로운 GPU에서 PCIe 4.0을 기다리고 있으며, 이 새로운 버전이 나올때까지는 더 오래 기다려야 할것 같습니다.
1억 5,000만 USD 범위의 초기 비용을 가진 N7 디자인에 비해 N5 비용은 최대 2억~2억 5,000만 USD까지 추가로 증가할 것으로 예상됩니다.
출처 : EET아시아
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